理科学計測機器や、半導体関連機器、産業機器などの製品・部品の加工委託を行う「日本電子」
そんな「日本電子」から、FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」が登場！
半導体業界をはじめ、電池・材料分野での透過電子顕微鏡(TEM)用試料作製において高精度で加工できるFIB(集束イオンビーム加工装置)と高分解能を有するSEM(走査電子顕微鏡)の複合システムです。
日本電子 FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」
価格：220,000,000円～(税込)
発売日：2023年2月1日
販売予定台数：50台以上／年間
- FIB仕様
像分解能：3nm(30kV)
倍率：x50～x300,000
加速電圧：0.5～30kV
ビーム電流：1.0pA～100nA
イオン源：Ga液体金属イオン源
加工形状：矩形, 円, 多角形, 点, 線, ビットマップ図形 - SEM仕様
像分解能：0.7nm(15kV)、1.4nm(1kV)、1.0nm(1kV, BDモード)
倍率：x10～x1,000,000(128mm x 96mm 写真サイズ表示時)
入射電圧：0.01～30kV
ビーム電流：約1pA～500nA以上
電子銃：インレンズショットキーPlus電界放出電子銃
対物レンズ：スーパーコニカルレンズ
標準検出器：二次電子検出器(SED)、上方電子検出器(UED)、インレンズ反射電子検出器(iBED)
先端材料の構造微細化やプロセスの複雑化に伴い、形態観察や元素分析などの評価技術にも高い分解能と精度が求められています。
半導体業界をはじめ、電池・材料分野での透過電子顕微鏡(TEM)用試料作製においては、“高精度”且つ“より薄く”が要求されます。
このニーズに応えるために「日本電子」から、FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」が登場！
「JIB-PS500i」は、高精度で加工できるFIB(集束イオンビーム加工装置)と高分解能を有するSEM(走査電子顕微鏡)の複合システムです。
FIB鏡筒は、最大電流100nAのGaイオンビーム照射ができます。
大電流での加工は、特に広領域の観察・分析に必要な断面試料作製に威力を発揮。
また、短ワーキングディスタンス化と新開発の電源により低加速仕上げ加工時の性能も向上されています。
SEM鏡筒は、新開発のスーパーコニカルレンズシステムを搭載したことにより低加速電圧時の像分解能が大きく向上。
コントラストの良い鮮明なSEM像が取得でき、薄片加工終点を見逃しません。
そして大型チャンバーおよび新開発の試料ステージを採用し、可動範囲を増やしたことで、大きな試料にも対応できます。
また、ステージの傾斜角を90度傾けて使用できるSTEM検出器を新規開発し、TEM試料作製からSTEM観察までシームレスに実行することができます。
操作GUIは高分解能走査電子顕微鏡JSM-IT800シリーズで好評のSEM centerを搭載し、EDS分析フルインテグレーションが可能に。
さらに二軸傾斜カートリッジと専用TEMホルダーにより、TEM-FIB間の試料搬送をより容易にしながら、高精度な方位合わせを可能にしています。
高精度と高分解能を実現したFIB-SEMシステム。
2023年2月1日から販売開始されている、日本電子 FIB-SEMシステム「JIB-PS500i」の紹介でした☆
